中国科学院官网公布了光刻技术的重要进展，看了以后我很高兴，该项成果由中科院所属的上海光机所负责，目前依据该技术进行的仿真实验表现非常好。

　　被称为中国“最强光”的上海光机所很多人不熟悉，它是我国建立最早、规模最大的激光技术研究所。在职人员中有7位院士，973计划项目及重大研究计划首席科学家3人，其他级别的顶尖科学家更是为数众多，神光Ⅱ等超强超短激光装置国际上也为数不多。上海光机所的名字以前都是数字代号，对外联络时单位名称都是代码，你可想而知这个所的地位。

　　此次的光刻技术取得了怎样的重要进展呢？光刻是芯片制造的关键技术，光刻分辨率决定了集成电路的尺寸。因此，光刻成像质量就非常重要。为了提高成像质量，光刻系统中采用了OPC技术，也就是“快速光学邻近效应修正技术”。而上海光机所正是通过基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的OPC技术，大幅提高成像质量。简单地说，就是在光刻机软硬件不变的情况下，可以通过该技术大幅提高光刻分辨率。

　　国内的华为等企业因光刻机在芯片问题上受阻已经两年多了。国内的光刻技术也一直没有进展。而中科院此次的消息无疑很振奋人心。虽然不能一蹴而就，但是每一个进步我都感到兴奋，很喜欢上海光机所的一句标语：与光同行志报国。